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介绍工模具PVD涂层技术

新葡京线上投注 www.xj-tstc.com 俗称圆饼靶,多弧镀的蒸发源一般为圆饼形。近几年也出现了长方形的多弧靶,但未见有明显效果。圆饼靶装在铜靶座(阴极座)上面,两者为罗纹连接。靶座中装有磁铁,通过前后移动磁铁,改变磁场强度,可调整弧斑移动速度及轨迹。为了降低靶及靶座的温度,要给靶座不断通入冷却水。为了保证靶与靶座之间的高导电、导热性,还可以在靶与靶座之间加锡(Sn垫片。

1.真空涂层技术的发展

国际上在上世纪六十年代才出现将CVD化学气相沉积)技术应用于硬质合金刀具上。由于该技术需在高温下进行(工艺温度高于1000℃)涂层种类单一,真空涂层技术起步时间不长。局限性很大,因此,其发展初期未免差强人意。

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